TY  - JOUR
AU  - Zhang, Songge
AU  - Zhang, Tao
AU  - Yu, Hua
AU  - Li, Tong
AU  - Li, Xiuzhen
AU  - Cui, Chenyang
AU  - Zhou, Yuchao
AU  - Guo, Hailing
AU  - Wang, Shuopei
AU  - Zheng, Dongfeng
AU  - Huang, Liangfeng
AU  - Bai, Liqi
AU  - Liu, Su
AU  - Shen, Cheng
AU  - Yang, Wei
AU  - Du, Luojun
AU  - Shi, Dongxia
AU  - Xian, Lede
AU  - Tao, Xiaoming
AU  - Chai, Yang
AU  - Li, Na
AU  - Zhang, Guangyu
TI  - Wafer-scale high-κ HfO2 dielectric films with sub-5-Å equivalent oxide thickness for 2D MoS2 transistors
JO  - Nature Communications
VL  - 17
IS  - 1
SN  - 2041-1723
CY  - [London]
PB  - Springer Nature
M1  - PUBDB-2026-00834
SP  - 1888
PY  - 2026
LB  - PUB:(DE-HGF)16
DO  - DOI:10.1038/s41467-026-68584-0
UR  - https://bib-pubdb1.desy.de/record/646413
ER  -