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| 001 | 566021 | ||
| 005 | 20230210184039.0 | ||
| 024 | 7 | _ | |a G:(GEPRIS)221133061 |d 221133061 |
| 035 | _ | _ | |a G:(GEPRIS)221133061 |
| 040 | _ | _ | |a GEPRIS |c http://gepris.its.kfa-juelich.de |
| 150 | _ | _ | |a Lithographisch gesteuerte Assemblierung und ALD-Beschichtung von 2D- und 3D-Porenstrukuren für die Thermophotovoltaik und als thermische Barriereschichten (C03) |y 2012 - 2016 |
| 371 | _ | _ | |a Professor Dr. Kornelius Nielsch |
| 450 | _ | _ | |a SFB 986 C03 |w d |y 2012 - 2016 |
| 510 | 1 | _ | |a Deutsche Forschungsgemeinschaft |0 I:(DE-588b)2007744-0 |b DFG |
| 550 | _ | _ | |0 G:(GEPRIS)192346071 |a SFB 986: Maßgeschneiderte Multiskalige Materialsysteme - M3 |w t |
| 680 | _ | _ | |a Zur Anwendung in der Thermophotovoltaik oder als thermische Barriereschichten sollen periodisch geordnete Nanostrukturen aus Metallen und Oxiden entwickelt werden. Mittels Interferenzlithographie werden großflächig strukturierte Oberflächen erzeugt, die die kontrollierte Assemblierung künstlicher Opale und die elektrochemische Oxidation von geordneten Al2O3-Membranen induzieren. Diese Trägerstrukturen sollen mittels ALD (von engl.: Atomic Layer Deposition, dt.: Atomlagenabscheidung) von Oxiden oder Metallen zu funktionalisierten photonischen Strukturen weiterverarbeitet werden, die erstmalig im gehobenen Temperaturbereich von 500 - 1200 °C erprobt werden sollen. |
| 909 | C | O | |o oai:juser.fz-juelich.de:991864 |p authority:GRANT |p authority |
| 909 | C | O | |o oai:juser.fz-juelich.de:991864 |
| 980 | _ | _ | |a G |
| 980 | _ | _ | |a AUTHORITY |
| Library | Collection | CLSMajor | CLSMinor | Language | Author |
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